提到光刻機(jī),想必首先想到的就是來自荷蘭的高端芯片光刻機(jī),至于光刻機(jī)的工作原理,與沖洗照片十分類似。需要通過光刻機(jī)的紫外線,然后去除晶圓體表面的保護(hù)膜,然后將此前設(shè)計(jì)好的精密線路,再通過紫外線刻在晶圓體之上??墒沁@件事卻屬于聽起來容易辦起來難,因?yàn)楣饪虣C(jī)性能的不同,所以導(dǎo)致芯片的納米等級也不同。
目前全球光刻機(jī)制造的芯片,可以分為5至7納米、7至28納米、28至65納米、65至90納米等級別。而且隨著全球科技不斷發(fā)展,芯片對于各個(gè)國家有著十分重要的作用。因?yàn)闊o論是航天領(lǐng)域、民航客機(jī),還是汽車、手機(jī)等領(lǐng)域,對于芯片的需求量一直比較大。那么為何全球擁有數(shù)十個(gè)發(fā)達(dá)國家,只有荷蘭能制造高端光刻機(jī),連美國都只能“心甘情愿”充當(dāng)輔助和配角?說到光刻機(jī)最初的發(fā)展,還追溯到上個(gè)世紀(jì)60至70年代左右。當(dāng)時(shí)美國研發(fā)的光刻機(jī),可是全球頂尖存在。當(dāng)然這和當(dāng)時(shí)的光刻機(jī)工作原理比較簡單,也有一定的關(guān)系。
那個(gè)時(shí)候的光刻機(jī),就是通過光把電路圖掩膜,涂刷在光敏膠的晶圓體之上,當(dāng)時(shí)的晶圓體大小為一英寸左右。到了80年代之后,日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在美國扶持下,也開始走向“巔峰”,甚至從最初需要美國幫助,直接成為超越后者,在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)出口量領(lǐng)先全球。到了1984年,荷蘭光刻廠成立之后,由于美日在半導(dǎo)體領(lǐng)域的地位無人能撼動,所以當(dāng)時(shí)的阿斯麥公司不過是以接收一些小訂單為主。到了1997年,美國半導(dǎo)體巨頭英特爾與美國能源部組建EUV前沿技術(shù)組織,因此讓摩托羅拉、AMD脫穎而出。
隨后阿斯麥及時(shí)抓住機(jī)遇,成功在美國建廠??墒菫榱说玫矫绹某姓J(rèn),阿斯麥研發(fā)的產(chǎn)品中必須有55%的原材料,是從美國供貨商手中拿貨。此后阿斯麥便在光刻機(jī)領(lǐng)域迅速崛起,并且隨著時(shí)間的沉淀,在高端光刻機(jī)領(lǐng)域已經(jīng)做到了無人可及。
這就導(dǎo)致如今阿斯麥研發(fā)的光刻機(jī),重量達(dá)到180噸,售價(jià)更是高達(dá)1.2億美元左右。除此之外,即便購買到阿斯麥研發(fā)的EUV光刻機(jī),但是還需要該公司專業(yè)人員對設(shè)備進(jìn)行調(diào)試,時(shí)間長達(dá)一年。當(dāng)然在阿斯麥研發(fā)的光刻機(jī)中,美國光源占據(jù)27%、荷蘭與英國占據(jù)32%、日本與德國也占據(jù)一定的比例。不難看出,美國在光刻機(jī)領(lǐng)域,早已無法與阿斯麥相提并論,因此只能選擇在幕后“打輔助”。這與美國制造業(yè)衰退,有著密切關(guān)聯(lián)。
(文/華強(qiáng))
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